Litografia wiązką elektronową

Sprzęt do tworzenia i testowania układów półprzewodnikowych

Szeroka gama instrumentów z wiązką elektronową, do masek, litografii bezpośredniej, do seryjnej produkcji, jak również do zaawansowanych badań i rozwoju w przemyśle półprzewodnikowym.

JBX-3050MV
JBX-3050MVJBX-3050MV
JBX-3050MV to system litografii wiązką elektronową do produkcji masek, w technologii projektowania według zasady 45/32 nm. Dzięki zaawansowanej technologii system ten charakteryzuje się pisaniem wzorów z wysoką prędkością, wysoką dokładnością i wysoką niezawodnością.
Metoda ekspozycji
Skanowanie wektorowe, zmienny kształt wiązki
Napięcie przyspieszające
50 kV
Źródło elektronów
LaB6 monokryształ
Wzór
</= ± 4 nm (3δ)
Dokładność położenia wiązki
</= ± 10 nm