Litografia wiązką elektronową

Sprzęt do tworzenia i testowania układów półprzewodnikowych

Szeroka gama instrumentów z wiązką elektronową, do masek, litografii bezpośredniej, do seryjnej produkcji, jak również do zaawansowanych badań i rozwoju w przemyśle półprzewodnikowym.

JBX-6300FS
 
JBX-6300FSJBX-6300FS
JBX-6300FS, wyposażony w działo elektronowe z termiczną emisją polową ZrO/W to system litografii wiązką elektronową metodą wektorowego skanowania wiązki. Układ odchylania wiązki sterowany jest przez 19-bitowy przetwornik cyfrowo-analogowy. Napięcie przyspieszające wybierane spośród trzech możliwych: 25 kV, 50 kV lub 100 kV. Mechanizm przesuwu stolika „step and repeat” z możliwośią załadunku podłoży o średnicy do 200 mm.
Dostępny jest także automatyczny moduł ładujący umożliwiający ciągłą pracę bez nadzoru z nawet 10-cioma kasetami.
Praca instrumentu kontrolowana jest przez stację roboczą z systemem operacyjnym UNIX. Połączenie systemu UNIX z dedykowanym graficznym interfejsem użytkownika (GUI)  zapewnia wysoką wydajność operacyjną tego instrumentu.

 

Metoda ekspozycji
Skanowanie wektorowe, wiązka punktowa
Napięcie przyspieszające
25 kV / 50 kV / 100 kV
Źródło elektronów
ZrO/W (Schottky)
Minimalny rozmiar wiązki
2nm
System ładowania
Auto loader
Rozmiar podłoża
Maksymalna średnica
200mm